SiO2-二氧化矽、石英環

光學鍍膜材料SiO2 、石英環

常用型態為Granules(顆粒)和Targets(靶材)。
詳細資訊
二氧化矽,熔點接近1710℃,為低折射率光學材料,是用於膜層設計上為最基本的材料。
 

二氧化矽在自然中的狀態,最常見的是石英。因其優越的電絕緣性和工藝的可行性,用途極為廣泛,主要用於製玻璃、陶器、耐火材料、電子工業的重要部件及水泥…等。
它的化學性質穩定,是屬於酸性的氧化物,不跟水及一般的酸作反應。


在光學產業中,它多使用於產生多層膜、防刮硬化膜及電介質膜...等。


用於鍍膜的石英材料型態眾多,有顆粒狀、錠狀以及環狀——端看製程或實驗需求的為何種形式。石英環應用於光學鍍膜和半導體製程,具有純度 高、光線透過濾高、附著力好,可應用於光學鍍膜的低折射率材料,搭配高折射率材料透過鍍膜設備蒸鍍方式, 在光學玻璃上製作 AR 、IR 等膜層。 
常用的石英環規格分為大環和小環,外型為不透明的磨砂面,沒有氣泡和黑點。

 
常用規格
Ø335*265*7.5
Ø300*230*7
300*230*15

若有其他規格需求,可另外洽詢專員。


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